表(biǎo)麵汙染測(cè)量儀(yí)用於(yú)直(zhí)接測量(liáng)的表麵(miàn)汙(wū)染(rǎn)測(cè)量(liáng)儀要能(néng)夠(gòu)探測(cè)低於規(guī)程限值(zhí)水平(píng)的汙(wū)染(rǎn)。測量時(shí)
，探測(cè)器要盡(jìn)可(kě)能靠(kào)近(jìn)表麵移(yí)動
，一(yī)旦探測到汙染
，探(tàn)測(cè)器應(yīng)在(zài)該區(qū)域(yù)定位(wèi)測量(liáng)足夠時間
，以(yǐ)確認(rèn)汙(wū)染水(shuǐ)平。

 

　　表(biǎo)麵汙染(rǎn)測量(liáng)儀對被檢測對象表麵(miàn)可以看得(dé)見(jiàn)的汙物或(huò)氧(yǎng)化(huà)物(wù)在(zài)不能(néng)去(qù)除的(dí)情(qíng)況(kuàng)下
，要(yào)考慮(lǜ)對(duì)汙染源效率的影(yǐng)響。在表(biǎo)麵(miàn)不是很平(píng)整的情(qíng)況下(xià)
，要(yào)評估(gū)檢測(cè)對(duì)象(xiàng)表(biǎo)麵(miàn)形狀對(duì)儀器效率的影響(xiǎng)。

 

　　為(wéi)了(liǎo)準確(què)測量總的表麵活度(dù)
，現場(cháng)監測儀器(qì)要經過適當(dāng)刻度。刻(kè)度(dù)源應(yīng)選擇其發射(shè)的α或β輻射(shè)與現場(cháng)汙染物預期(qī)的輻(fú)射能量(liáng)相似(sì)。有代(dài)表性(xìng)的(dí)刻度(dù)源要(yào)用現場被(bèi)評估的(dí)放(fàng)射(shè)性(xìng)材料製備。

 

　　表(biǎo)麵汙(wū)染測量的基(jī)本要求是及時發現是否(fǒu)有汙染
，確(què)定汙(wū)染(rǎn)點位和(hé)範圍
，並給(gěi)出汙染區域內汙(wū)染核(hé)素的(dí)量(liáng)值(zhí)。常(cháng)用(yòng)的表(biǎo)麵(miàn)汙染監測儀(yí)器是便(biàn)攜(xié)式(shì)的和(hé)車載式(shì)的(dí)
，更(gēng)先進的表麵汙染(rǎn)監(jiān)測管理係統也(yě)已經(jīng)開(kāi)發
，用的是位置靈(líng)敏(mǐn)探(tàn)測器
，它不(bù)僅可以準確(què)給出(chū)汙染點位
，同時(shí)還可在顯示屏(píng)幕上三(sān)維顯(xiǎn)示(shì)汙(wū)染圖(tú)像和(hé)量值(zhí)。表(biǎo)麵(miàn)汙(wū)染(rǎn)監測(cè)的對象(xiàng)主(zhǔ)要(yào)是發射(shè)α，β或γ的核(hé)素
，測量方式(shì)有(yǒu)α汙染(rǎn)測量
，β汙(wū)染測量
，α/β汙染(rǎn)測(cè)量
，α/γ汙(wū)染(rǎn)測量。

 

　　表(biǎo)麵汙染可以(yǐ)用直接(jiē)測(cè)量，掃描測(cè)量和間接(jiē)測量確定。直接(jiē)測(cè)量(liáng)是用監測儀器(qì)進行
，可(kě)以(yǐ)測量固定汙(wū)染
，也(yě)可(kě)測量(liáng)鬆散(sàn)汙染
；測量時(shí)
，以適(shì)當距(jù)離在(zài)待測(cè)對(duì)象的(dí)上方放置探(tàn)測(cè)器
，按預定時間間(jiān)隔測量並(bìng)記(jì)錄(lù)讀(dú)數。

 

　　對(duì)一些不能(néng)活(huó)動的固體或者貯(zhù)存有液(yè)體的表麵
，或(huò)者有高(gāo)本(běn)底影(yǐng)響
，或者測量儀器(qì)不(bù)能靠(kào)近表麵
，直接測(cè)量(liáng)是(shì)困(kùn)難的
，甚至是不可能的。此時(shí)隻能(néng)采(cǎi)用(yòng)間(jiān)接測量方(fāng)法。